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Product Center物理光学综合实验 型号:RLE-ME03是光学与光学工程专业的主要理论基础,本实验以光的波动性为主要研究对象,从电磁波理论和傅里叶分析两个角度,研究光的传播、干涉、衍射、偏振等性质。
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物理光学综合实验 型号:RLE-ME03
是光学与光学工程专业的主要理论基础,本实验以光的波动性为主要研究对象,从电磁波理论和傅里叶分析两个角度,研究光的传播、干涉、衍射、偏振等性质。RealLight®应用新一代空间光调制器(SLM),从波的叠加原理出发研究光的干涉规律,讨论光的相干性;围绕衍射阐述光的波动性,运用SLM模拟二元光学元件,从实际出发研究光的衍射;研究光在晶体中的传播特性和偏振元件对光的作用。本实验是紧贴光电专业《工程光学》等相关课程的专业配套实验。
实验内容
1、杨氏双缝干涉实验;
2、马赫-曾德干涉实验;
3、菲涅尔衍射实验(圆孔、矩孔、三角形、多边形孔);
4、夫琅禾费衍射实验(圆孔、矩孔、三角形、多边形孔);
5、衍射光学元件(DOE)设计;
6、偏振光产生与检验(线偏振、圆偏振、椭圆偏振)
7、马吕斯定律验证实验;
8、波片与偏振光实验(左旋偏振光、右旋偏振光)
9、偏振干涉实验(波片的快轴、慢轴)
物理光学综合实验
![]() | 产品名称:杂质浓度测试仪 产品型号: KDB-1A |
产品简介
原理:根据硅、锗单晶的迁移率、电阻率和杂质浓度的关系,可直接测量、计算出晶体内的杂质浓度。
范围:它适合于测量横截面尺寸是可测量的,而且棒的长度大于横截面线度的有规则的长棒,例如横断面为圆形、正方形、长方形或梯形的单晶或多晶锭。
用途:根据测量沿锭长杂质浓度的分布状况决定产品的合格部分,通过杂质浓度的直接测量,决定晶体生长过程中的掺杂数量。
样品可在常温或低温下测量。
显示方式:仪器连接PC机,通过测试软件计算,用对数坐标的方式来显示杂质浓度(含次方数)沿锭长的分布曲线,可对曲线图进行打印和保存。
测量范围: 可测晶体电阻率:0.005-3000Ω·cm。
直流数字电压表测量范围:0-199.99mV,灵敏度:10μA。
![]() | 产品名称:材料高温综合物性测试仪 产品型号: SQW-II-14 |
材料高温综合物性测试仪型号: SQW-II-14
本仪器无机金属材料高温、常温综合性能的测定,也模拟液态金属向铸型中浇注的真况所进行的造型混合料高温性能试验。
本仪器主要是供科研单位,高等工科院校和工厂试验测量无机非金属材料、造型混合料高温性能之用,主要可在室温~1400℃范围内作下列试验。
高温下试样的热膨胀、 高温抗压强度、试样的热膨胀力、固定载荷下试样的热变形、残留强度、常温抗压强度。
主要技术参数
1.试样标准:Ф30×50㎜圆椎体。
2.负荷范围:0~28.29MP(0~2000㎏)。
3.测定变形范围:0~±5㎜显示分辩0.01㎜。
4.加热温度范围:正常工作温度≥室温~1350℃,短时间达1400℃
5.测力精度:<±1%FS。
6.测变形精度<±1%FS。
7.升温速度:用户设定,等速升温,程序控制,两个程序段。
8.硅碳管高温炉参数:炉堂尺寸Ф50㎜。电炉功率2.5kw。
9.加载速度:0.8~8㎜/分 手动调节。
10.仪器主体:长×宽×高=720×500×1644㎜; 控制柜:台式、立式两种;
11.整机重:500㎏;整机功耗:<3kw。
12.工作条件。环境温度:0~40℃ 相对湿度<85﹪RH。电源:交流单相220V±10﹪50HZ。无强磁干扰,无强列振动,无腐蚀气体,要求供电系统可靠接地。
13. 可上网实现网络在线远程技术支持及远程测控和传输